- 研究納米臭氧/H2O2工藝去除半導體廢水中TMAH
強調(diào) 納米臭氧/ H2O2工藝在pH 10和25C下對TMAH的去除效果好。 使用納米臭氧時，氣體傳質(zhì)和臭氧氣體的半衰期增加了 納米臭氧/ H2O2反應產(chǎn)生了可除去TMAH的OH自由基。 在90分鐘內(nèi)，TMAH中80％ . . .
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